×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
登录
中文版
|
English
中国科学院金属研究所机构知识库
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
学科领域
关键词
资助项目
文献类型
出处
收录类别
出版者
发表日期
存缴日期
学科门类
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
新闻&公告
在结果中检索
研究单元&专题
作者
文献类型
期刊论文 [2]
发表日期
2010 [1]
2006 [1]
语种
出处
Surface & ... [2]
资助项目
收录类别
资助机构
×
知识图谱
IMR OpenIR
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共2条,第1-2条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
发表日期升序
发表日期降序
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
提交时间升序
提交时间降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
Variation of microstructure and composition of the Cr(2)AlC coating prepared by sputtering at 370 and 500 degrees C
期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2010, 卷号: 204, 期号: 23, 页码: 3838-3845
作者:
J. J. Li
;
L. F. Hu
;
F. Z. Li
;
M. S. Li
;
Y. C. Zhou
Adobe PDF(707Kb)
  |  
收藏
  |  
浏览/下载:84/0
  |  
提交时间:2012/04/13
Cr(2)Alc Coating
Alpha-(Cr
Max Phase
Al)(2)o(3)
Magnetron Sputtering
Microstructure
Substrate Temperature
Phase Thin-films
Ab-initio Calculations
Select Max Phases
Tribological Behavior
m(n+1)Ax(n) Phases
Deposited Chromium
Oxidation
Behavior
Vapor Deposits
Nitride Films
Bulk Cr2alc
Internal stress and adhesion of Cu film/Si prepared by both MEVVA and IBAD
期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2006, 卷号: 201, 期号: 3-4, 页码: 1243-1249
作者:
M. Yu
;
J. Z. Zhang
;
D. X. Li
;
Q. L. Meng
;
W. Z. Li
收藏
  |  
浏览/下载:113/0
  |  
提交时间:2012/04/14
Mevva
Ibad
Copper Film
Compressive Stress
Adhesion
Deposited Thin-films
Intrinsic Stress
Residual-stress
Cosi2 Films
Bombardment
Diamond