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Interfacial microstructure of high-kappa dielectric CaZrOx films deposited by pulse laser deposition in low oxygen pressure 期刊论文
Integrated Ferroelectrics, 2005, 卷号: 74, 页码: 103-111
作者:  X. Y. Qiu;  H. W. Liu;  F. Fang;  M. J. Ha;  J. M. Liu
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Calcium Zirconate  Interfacial Kinetic Process  Microstructure  Thermal-stability  Gate Dielectrics  Zro2 Films  Thin-films  Silicon  Si  Diffusion  Si(100)  Growth  Oxides