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Effect of Enhanced Plasma Density on the Properties of Aluminium Doped Zinc Oxide Thin Films Produced by DC Magnetron Sputtering 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2011, 卷号: 27, 期号: 5, 页码: 393-397
作者:  J. Gong;  X. B. Zhang;  Z. L. Pei;  C. Sun;  L. S. Wen
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Sputtering  Electronic Conductivity  Ion Bombardmentplasma Density  Transparent  Temperature  Parameters  Deposition