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X-ray photoelectron spectroscopy studies of TixAl1-xN thin films prepared by RF reactive magnetron sputtering 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2005, 卷号: 21, 期号: 4, 页码: 541-544
作者:  R. Xiong;  J. Shi
收藏  |  浏览/下载：58/0  |  提交时间：2012/04/14
Tixal1-xn Films  X-ray Photoelectron Spectroscopy  Core-electron  Spectrum  Aluminum Nitride Films  Ion Plating Method  Vapor-deposition  Coatings  Microstructure  Growth  Tools  Ain  Ti