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PHASE SELECTION IN INTERFACIAL REACTION OF NI/AMORPHOUS SI MULTILAYERS 期刊论文
Journal of Applied Physics, 1993, 卷号: 73, 期号: 9, 页码: 4313-4318
作者:  W. H. Wang;  H. Y. Bai;  Y. Zhang;  W. K. Wang
收藏  |  浏览/下载：60/0  |  提交时间：2012/04/14
Silicide Formation  Amorphous-silicon  Thin-films  Nucleation  Kinetics  Systems  Growth  Ni2si  Model