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Simulations of the dependence of gas physical parameters on deposition variables during HFCVD diamond films 期刊论文
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY, 2006, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 599-604
作者:  Wang, Aiying;  Lee, Kwangryeol;  Sun, Chao;  Wen, Lishi
收藏  |  浏览/下载：71/0  |  提交时间：2021/02/02
gas physical parameters  simulations  diamond films  HFCVD  
Simulations of the dependence of gas physical parameters on deposition variables during HFCVD diamond films 期刊论文
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY, 2006, 卷号: 22, 期号: 5, 页码: 599-604
作者:  Wang, Aiying;  Lee, Kwangryeol;  Sun, Chao;  Wen, Lishi
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