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Pulsed laser deposition of aluminate YAlO3 and LaAlO3 thin films for alternative gate dielectric applications 期刊论文
Applied Physics a-Materials Science & Processing, 2005, 卷号: 80, 期号: 8, 页码: 1775-1779
作者:  J. M. Liu;  G. H. Shi;  L. C. Yu;  T. L. Li;  Z. G. Liu;  J. Y. Dai
收藏  |  浏览/下载：90/0  |  提交时间：2012/04/14
Hafnium Oxide  Si  Stability  Silicon  Transition  Dioxide  Devices  Hfo2  
Pulsed laser deposition of aluminate YAlO3 and LaAlO3 thin films for alternative gate dielectric applications 期刊论文
Applied Physics a-Materials Science & Processing, 2005, 卷号: 80, 期号: 8, 页码: 1775-1779
作者:  J. M. Liu;  G. H. Shi;  L. C. Yu;  T. L. Li;  Z. G. Liu;  J. Y. Dai
收藏  |  浏览/下载：86/0  |  提交时间：2012/05/17
Hafnium Oxide  Si  Stability  Silicon  Transition  Dioxide  Devices  Hfo2