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退火对TiO2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响
王宏; 张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会
2010
Source Publication材料保护
ISSN1001-1560
Volume43.0Issue:002Pages:57-60
Abstract采用磁控反应溅射制备了纯TiO2薄膜和Fe掺杂的TiO2薄膜,研究了退火对2种TiO2薄膜结构和光催化活性的影响。退火前TiO2薄膜与基体结合良好,退火后薄膜发生了开裂,薄膜与基体的结合变差。TiO2薄膜在700℃以下退火后仍保持着锐钛矿型晶体结构,但衍射峰的强度有明显的增强,说明组成薄膜的晶粒在退火过程中长大;当退火温度高于800℃时,发生了从锐钛矿向金红石型的转变。退火后TiO2薄膜的紫外可见光透射率有较大辐度的下降;甲基橙溶液的光催化降解速率随着退火温度升高而下降。
KeywordTiO2薄膜 磁控溅射 退火 光催化活性
Indexed ByCSCD
Language中文
CSCD IDCSCD:3838557
Citation statistics
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/143691
Collection中国科学院金属研究所
Affiliation中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
王宏,张文杰,朱圣龙,等. 退火对TiO2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响[J]. 材料保护,2010,43.0(002):57-60.
APA 王宏,张文杰,朱圣龙,李瑛,&王福会.(2010).退火对TiO2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响.材料保护,43.0(002),57-60.
MLA 王宏,et al."退火对TiO2磁控溅射薄膜结构和光催化活性的影响".材料保护 43.0.002(2010):57-60.
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