沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响

IMR OpenIR

	沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响
	张文杰; 杨丽丽; 李瑛; 朱圣龙; 王福会
	2007-11-15
发表期刊	真空科学与技术学报
期号	6 页码:479-484
摘要	TiO2薄膜具有许多独特的性能,作为一种令人满意的材料被应用于诸多领域。磁控溅射作为制备这种多功能薄膜的一种主要方法,也越来越引起人们的关注。TiO2薄膜的结构和性能是由沉积条件决定的。通过改变沉积速度、溅射气体、靶温度、退火过程以及采用其它溅射技术,可以得到金红石、锐钛矿或是非晶的TiO2膜,同时具有不同的光催化、光学及电学性能,能够满足不同应用领域的需要。同时,表面改性可以克服TiO2薄膜的应用局限性,使之具有更佳的使用性能。
部门归属	沈阳理工大学环境与化学工程学院,沈阳理工大学环境与化学工程学院,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所沈阳110168,中国科学院金属研究所沈阳110016,沈阳110168,东北大学资源与土木工程学院沈阳110006,沈阳110016,沈阳110016,沈阳110016
关键词	磁控溅射 Tio2薄膜沉积条件表面改性
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24572
专题	中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张文杰,杨丽丽,李瑛,等. 沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2007(6):479-484.
APA	张文杰,杨丽丽,李瑛,朱圣龙,&王福会.(2007).沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响.真空科学与技术学报(6),479-484.
MLA	张文杰,et al."沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响".真空科学与技术学报 .6(2007):479-484.