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题名: 磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征
作者: 殷景华;  蔡伟;  王明光;  郑玉峰;  李美成;  王培林;  赵连城
出版日期: 2002-11-28
会议日期: 2002-11-28
摘要: 采用磁控溅射方法在p-Si(111)衬底上淀积5nm Pt膜,退火后形成PtSi薄膜,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察了PtSi薄膜的表面和界面特征.实验结果表明,工艺条件影响PtSi薄膜的微观组织结构和表面形貌.随着衬底温度增加,薄膜表面由柱晶状团簇变为扁平状团簇,薄膜显微结构由多层变为单层.衬底加热有利于形成界面清晰、结构完整、成分单一的PtSi薄膜.
会议名称: 第二届全国纳米技术与应用学术会议
会议文集: 《半导体学报》第24卷 增刊第二届全国纳米技术与应用学术会议专刊
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殷景华,蔡伟,王明光,等. 磁控溅射纳米ptsi薄膜表面和界面特征[C]. 《半导体学报》第24卷 增刊第二届全国纳米技术与应用学术会议专刊.北京.《半导体学报》编辑部.2002.
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