| 磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征 | |
| 殷景华; 蔡伟; 王明光; 郑玉峰; 李美成; 王培林; 赵连城 | |
| 2002-11-28 | |
| 会议名称 | 第二届全国纳米技术与应用学术会议 |
| 会议录名称 | 《半导体学报》第24卷 增刊第二届全国纳米技术与应用学术会议专刊 |
| 会议日期 | 2002-11-28 |
| 会议地点 | 宁波 |
| 出版地 | 北京 |
| 出版者 | 《半导体学报》编辑部 |
| 摘要 | 采用磁控溅射方法在p-Si(111)衬底上淀积5nm Pt膜,退火后形成PtSi薄膜,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察了PtSi薄膜的表面和界面特征.实验结果表明,工艺条件影响PtSi薄膜的微观组织结构和表面形貌.随着衬底温度增加,薄膜表面由柱晶状团簇变为扁平状团簇,薄膜显微结构由多层变为单层.衬底加热有利于形成界面清晰、结构完整、成分单一的PtSi薄膜. |
| 部门归属 | 哈尔滨理工大学应用科学学院(哈尔滨);哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(哈尔滨);中国科学院沈阳金属研究所固体原子像实验室(沈阳); |
| 关键词 | 表面形貌 界面结构 磁控溅射方法 硅化铂 纳米薄膜 |
| 主办者 | 中国电子学会 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 会议论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70182 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 殷景华,蔡伟,王明光,等. 磁控溅射纳米PtSi薄膜表面和界面特征[C]. 北京:《半导体学报》编辑部,2002. |
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