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题名: 原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法
作者: 刘志权
出版日期: 2010-10-8
会议日期: 2010-10-08
摘要: @@随着材料精细结构的研究需求和相关理论和制造技术的发展,电镜内电子束斑的尺寸越来越小,已经能够实现纳米束斑下的原子尺度表征分析。由于电子束较小的束斑尺寸和可操作性,类似于聚焦离子柬,被看作是一种具有良好发展前景的纳米结构制造技术。其中,电子束诱导沉积(Electron beaminduced deposition,EBID)足近二十年来发展较为迅速的一种聚焦电子柬制造方法,可以实现电镜内纳米结构的原位制备。其原理是利用电镜的微小束斑,与样品室的含金属成分气体相互作用,从而分解出金属原子沉积形成纳米结构。
会议名称: 2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会
会议文集: 2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会论文集
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刘志权. 原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法[C]. 2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会论文集.2010.
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