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原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法
刘志权
2010-10-08
Conference Name2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会
Source Publication2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会论文集
Conference Date2010-10-08
Conference Place杭州
Abstract@@随着材料精细结构的研究需求和相关理论和制造技术的发展,电镜内电子束斑的尺寸越来越小,已经能够实现纳米束斑下的原子尺度表征分析。由于电子束较小的束斑尺寸和可操作性,类似于聚焦离子柬,被看作是一种具有良好发展前景的纳米结构制造技术。其中,电子束诱导沉积(Electron beaminduced deposition,EBID)足近二十年来发展较为迅速的一种聚焦电子柬制造方法,可以实现电镜内纳米结构的原位制备。其原理是利用电镜的微小束斑,与样品室的含金属成分气体相互作用,从而分解出金属原子沉积形成纳米结构。
description.department中国科学院金属研究所,沈阳材料科学国家实验室,辽宁 沈阳 110016
Keyword原位制备 纳米结构 电子束诱发沉积方法
Funding Organization中国物理学会
Language中文
Document Type会议论文
Identifierhttp://ir.imr.ac.cn/handle/321006/70988
Collection中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
刘志权. 原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法[C],2010.
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