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Experimental study on atomic-scale strengthening mechanism of the IVB transition-metal nitrides 期刊论文
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2017, 卷号: 696, 页码: 572-579
作者:  Han, Kechang;  Lin, Guoqiang;  Dong, Chuang;  Tai, Kaiping;  Jiang, Xin;  Lin, GQ (reprint author), Dalian Univ Technol, Minist Educ, Key Lab Mat Modificat Laser Ion & Electron Beams, Dalian 116024, Peoples R China.
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Nitride Films  Arc Ion Plating  Composition  Hardness  Strengthening Mechanism  
STUDY ON ATOMIC-SCALE STRENGTHENING MECHANISM OF TRANSITION-METAL NITRIDE MNx (M=Ti, Zr, Hf) FILMS WITHIN WIDE COMPOSITION RANGES 期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2016, 卷号: 52, 期号: 12, 页码: 1601-1609
作者:  Han Kechang;  Liu Yiqi;  Lin Guoqiang;  Dong Chuang;  Tai Kaiping;  Jiang Xin
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transition-metal nitride film  arc ion plating  composition  mechanical property  strengthening mechanism  
轴向磁场对电弧离子镀CrN薄膜显微组织及耐腐蚀性能的影响 期刊论文
中国有色金属学报, 2015, 期号: 8
作者:  赵彦辉;  李天书;  于宝海;  肖金泉;  林国强
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Crn薄膜  磁场  电弧离子镀  显微组织  耐腐蚀性  
超硬纳米多层膜的材料选择与结构设计 期刊论文
机械工程材料, 2010, 期号: 10, 页码: 68-71+95
作者:  赵彦辉;  肖金泉;  林国强;  郎文昌;  于宝海
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超硬纳米多层膜  材料选择  结构设计  
脉冲偏压对电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响 期刊论文
金属学报, 2005, 期号: 10, 页码: 100-104
作者:  赵彦辉,林国强,李晓娜,董闯,闻立时
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脉冲偏压  电弧离子镀  Ti/tin纳米多层薄膜  显微硬度  
大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算 期刊论文
金属学报, 2004, 期号: 10, 页码: 1064-1068
作者:  郭慧梅,林国强,盛明裕,王德真,董闯,闻立时
收藏  |  浏览/下载:63/0  |  提交时间:2012/04/12
大颗粒  电弧离子镀  脉冲偏压  等离子体鞘层  受力分析  
脉冲偏压电弧离子镀沉积温度的计算 期刊论文
金属学报, 2004, 期号: 10, 页码: 1069-1073
作者:  白晓,林国强,董闯
收藏  |  浏览/下载:84/0  |  提交时间:2012/04/12
电弧离子镀  脉冲偏压  沉积温度  计算  
偏压对电弧离子镀薄膜表面形貌的影响机理 期刊论文
金属学报, 2003, 期号: 5, 页码: 510-515
作者:  黄美东,林国强,董闯,孙超,闻立时
收藏  |  浏览/下载:66/0  |  提交时间:2012/04/12
偏压  电弧离子镀  Tin薄膜  表面形貌  
脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能 期刊论文
金属学报, 2003, 期号: 5, 页码: 516-520
作者:  黄美东,孙超,林国强,董闯,闻立时
收藏  |  浏览/下载:76/0  |  提交时间:2012/04/12
电弧离子镀  低温沉积  脉冲偏压  Tin 薄膜  
工艺参数对电弧离子镀膜过程中基体温度的影响 会议论文
首届中国热处理活动周学术会议论文集, 北京, 2002-08-01
作者:  黄美东;  中国科学院金属研究所;  孙超;  闻立时;  林国强;  董闯
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工艺参数  电弧离子镀  基体温度  热电偶接触法