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热解氮化硼坩埚的研制及其在分子束外延中的应用 期刊论文
硅酸盐通报, 1986, 期号: 5, 页码: 28-33
作者:  赵凤鸣;  黄运衡
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分子束外延:7080  氮化硼:3372  真空性能:3096  物理和化学性能:2656  七十年:2046  热解:2038  六十年代:1912  陶瓷材料:1835  单晶薄膜:1815  喷射炉:1784  
热解氮化硼在分子束外延中的应用 期刊论文
真空科学与技术, 1985, 期号: 4, 页码: 59-62
作者:  黄运衡;  赵凤鸣
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分子束外延生长:7211  氮化硼:4324  热解:2616  纯度:2045  真空性能:1927  陶瓷材料:1824  源材料:1781  单晶薄膜:1763  高纯石墨:1681  火花源质谱:1449  
热解氮化硼(PBN)坩埚的研制及在分子束外延中的应用 期刊论文
稀有金属, 1985, 期号: 1, 页码: 1-3
作者:  赵凤呜,黄运衡
收藏  |  浏览/下载:166/0  |  提交时间:2012/04/12
分子束外延:9068  氮化硼:3656  热解:876  工艺流程:861  坩埚:772  单晶薄膜:708  载流子浓度:699  新型陶瓷材料:695  液相外延:652  电子迁移率:627