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放电气体对ECR-PECVD法制备微晶硅薄膜的影响 期刊论文
材料研究学报, 2013, 期号: 3, 页码: 307-311
作者:  程华;  钱永产;  薛军;  吴爱民;  石南林
收藏  |  浏览/下载：171/0  |  提交时间：2013/12/25
材料合成与加工工艺  微晶硅薄膜  Ecr-pecvd  放电气体  
基片温度对微晶硅薄膜微观结构和光学性能的影响 期刊论文
材料研究学报, 2011, 期号: 4, 页码: 408-412
作者:  程华;  王萍;  崔岩;  吴爱民;  石南林
收藏  |  浏览/下载：106/0  |  提交时间：2012/04/12
材料合成与加工工艺  微晶硅薄膜  Ecr Pecvd  吸收系数  光学带隙  
用等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜 期刊论文
材料研究学报, 2010, 期号: 5, 页码: 547-549
作者:  程华;  张昕;  张广城;  刘汝宏;  吴爱民;  石南林
收藏  |  浏览/下载：119/0  |  提交时间：2012/04/12
材料合成与加工工艺  微晶硅薄膜  Ar稀释sih_4  Ecr-pecvd  微波功率  
PECVD硅烷分解法制备硅层基本规律的研究 学位论文
, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2009
作者:  程华
收藏  |  浏览/下载：142/0  |  提交时间：2012/04/10
微晶硅薄膜  Pecvd  Ar放电  沉积速率  组织结构  结晶状态  薄膜稳定性  电学特性  光学特性