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沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO_2薄膜性能的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2007, 期号: 6, 页码: 479-484
作者:  张文杰;  杨丽丽;  李瑛;  朱圣龙;  王福会
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磁控溅射  Tio2薄膜  沉积条件  表面改性  
沉积条件和表面改性对磁控溅射法制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2007, 卷号: 27.0, 期号: 006, 页码: 479-484
作者:  张文杰;  杨丽丽;  李瑛;  朱圣龙;  王福会
收藏  |  浏览/下载:58/0  |  提交时间:2021/02/02
磁控溅射  TiO2  薄膜  沉积条件  表面改性  
(Fe,Co,Ni)-P系合金电化学沉积条件与结构的关系 期刊论文
金属学报, 1986, 期号: 2, 页码: 124-133
作者:  姜晓霞;  张弦;  林树智
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非晶态结构:4407  沉积条件:4185  电化学:4136  磷含量:3322  合金结构:2992  非晶态合金:2801  镀层组成:2365  电流密度:2175  阴极极化曲线:2136  结构关系:1790