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Internal stress and adhesion of Cu film/Si prepared by both MEVVA and IBAD 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2006, 卷号: 201, 期号: 3-4, 页码: 1243-1249
作者:  M. Yu;  J. Z. Zhang;  D. X. Li;  Q. L. Meng;  W. Z. Li
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Mevva  Ibad  Copper Film  Compressive Stress  Adhesion  Deposited Thin-films  Intrinsic Stress  Residual-stress  Cosi2 Films  Bombardment  Diamond  
Continuous CoSi2 layers in silicon synthesized by Co-ion implantation 期刊论文
Materials Letters, 1997, 卷号: 32, 期号: 2-3, 页码: 121-126
作者:  J. Z. Zhang;  X. Y. Ye;  J. Chang;  S. Bernard
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Silicide  Cobalt  Cosi2  Ion implantatIon  Buried Cosi2  Beam Synthesis  Beta-fesi2  Growth