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WOS被引频次降序
Initial phase formation in Nb/Si multilayers deposited at different temperatures
期刊论文
Journal of Applied Physics, 1996, 卷号: 80, 期号: 3, 页码: 1422-1427
作者:
M. Zhang
;
W. Yu
;
W. H. Wang
;
W. K. Wang
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提交时间:2012/04/14
Titanium Thin-films
Interfacial Reactions
Growth-kinetics
Silicon
Nucleation
(111)Si
Systems
Si
Interdiffusion
Selection
CALCULATION OF THE TEMPERATURE FOR FORMATION OF COMPETING INTERMETALLIC COMPOUNDS IN NI/TI MULTILAYERS
期刊论文
Materials Letters, 1993, 卷号: 17, 期号: 5, 页码: 258-262
作者:
T. D. Shen
;
Y. L. Wu
;
M. X. Quan
;
J. T. Wang
;
Z. Q. Hu
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提交时间:2012/04/14
Solid-state Reaction
X-ray-diffraction
Interdiffusion Reactions
Elemental Composites
Diffusion Couples
Grain-boundaries
Amorphization
Films
Ni/zr
Zr
SOLID-STATE AMORPHIZATION REACTIONS IN NI/TI MULTILAYER COMPOSITES PREPARED BY COLD-ROLLING
期刊论文
Journal of Materials Science, 1993, 卷号: 28, 期号: 2, 页码: 394-398
作者:
T. D. Shen
;
M. X. Quan
;
J. T. Wang
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浏览/下载:62/0
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提交时间:2012/04/14
Diffusion Couples
Interdiffusion Reactions
Elemental Composites
Thin-films
Ni/zr
Ni
Planar
Binary
Growth
Alloys