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Preparation and Formation Mechanism of Highly Dispersed Manganese Silicide on Silica by MOCVD of Mn(CO)(5)SiCl3 期刊论文
Chemical Vapor Deposition, 2013, 卷号: 19, 期号: 1-3, 页码: 68-73
作者:  J. C. Guan;  J. H. Jin;  X. Chen;  B. S. Zhang;  D. S. Su;  C. H. Liang
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Formation Mechanism  In-situ Ftir  Manganese Silicide  Mn(Co)(5)Sicl3  Mocvd  Chemical-vapor-deposition  Nanowires  Films  Fe(Co)(4)(Sicl3)(2)  Semihydrogenation  Precursor  Phase  Fesi