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Effect of argon on the structure of hydrogenated nanocrystalline silicon deposited from tetrachlorosilane/hydrogen/argon plasma 期刊论文
Physica Status Solidi a-Applications and Materials Science, 2012, 卷号: 209, 期号: 6, 页码: 1080-1084
作者:  L. Zhang;  J. H. Gao;  J. Q. Xiao;  L. S. Wen;  J. Gong;  C. Sun
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Hydrogen Concentration  Microstructure  Nanocrystalline Silicon  Raman  Spectra  Chemical-vapor-deposition  Low-temperature Growth  Amorphous-silicon  Microcrystalline Silicon  Raman-spectroscopy  Solar-cells  Thin-films  Chemistry  Mechanism  Kinetics  
Effect of hot water and heat treatment on the apatite-forming ability of titania films formed on titanium metal via anodic oxidation in acetic acid solutions 期刊论文
Journal of Materials Science-Materials in Medicine, 2008, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 1767-1773
作者:  X. Y. Cui;  H. M. Kim;  M. Kawashita;  L. B. Wang;  T. Y. Xiong;  T. Kokubo;  T. Nakamura
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Simulated Body-fluid  Treated Titanium  Low-temperature  Mechanical-properties  Direct Deposition  Aqueous-solutions  Oxide-films  Hydroxylapatite  Anatase  Glass  
Synthesis and properties of one-dimensional aluminum nitride nanostructures 期刊论文
Nano, 2007, 卷号: 2, 期号: 6, 页码: 307-331
作者:  Y. B. Tang;  H. T. Cong;  H. M. Cheng
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One-dimensional Nanostructures  Aln  Synthesis  Properties  Al-aln Composites  Field-emission Properties  Carbon-nanotube-template  Metal-matrix Composites  Si-doped Aln  Semiconductor Nanowires  Electron-affinity  Thermal-expansion  Vapor-deposition  Low-temperature  
Seed-mediated synthesis of uniform ZnO nanorods in the presence of polyethylene glycol 期刊论文
Journal of Crystal Growth, 2004, 卷号: 270, 期号: 3-4, 页码: 527-534
作者:  X. M. Liu;  Y. C. Zhou
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Seed-mediated Synthesis  Zno Nanorods  Chemical-vapor-deposition  Silver Nanowires  Low-temperature  Aspect-ratio  Gold Nanorods  Growth  Arrays  Route  Size  Fabrication  
Mechanical property of low temperature deposited TiN film by pulsed biased arc ion plating 期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2003, 卷号: 39, 期号: 5, 页码: 516-520
作者:  Huang, MD;  Sun, C;  Lin, GQ;  Dong, C;  Wen, LS
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arc ion plating  low temperature deposition  pulsed bias  TiN film