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Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates 期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
作者:  Dong, HW;  Zhao, YW;  Li, JM
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semi-insulating InP  ion implantation  silicon  annealing  activation  
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates 期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
作者:  Dong, HW;  Zhao, YW;  Li, JM
收藏  |  浏览/下载：63/0  |  提交时间：2021/02/02
semi-insulating InP  ion implantation  silicon  annealing  activation