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射频反应溅射制备MgO二次电子发射薄膜 期刊论文
金属学报, 2016, 期号: 1
作者:  王彬;  熊良银;  刘实
收藏  |  浏览/下载：114/0  |  提交时间：2016/04/19
射频反应溅射沉积  薄膜厚度  表面粗糙度  二次电子发射系数  耐电子束轰击能力  
一种铜膜的制备方法 成果
2005
完成人/完成单位:  卢磊;  斯晓;  陶乃熔;  隋曼龄;  卢柯
收藏  |  浏览/下载：85/0  |  提交时间：2013/07/24
铜膜制备  薄膜厚度  纳米材料  晶粒尺寸  
磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究 期刊论文
电子显微学报, 2002, 期号: 5, 页码: 645-646
作者:  詹倩,贺连龙,李斗星
收藏  |  浏览/下载：58/0  |  提交时间：2012/04/12
Fe-n薄膜:7792  微结构表征:4484  溅射:1988  微观结构:1642  高分辨像:1585  沉积时间:1505  材料科学:1481  中国科学院:1384  薄膜厚度:1346  金属研究所:1344  
薄膜厚度的电子探针测定 期刊论文
电子显微学报, 1992, 期号: 1, 页码: 26-32
作者:  郭延风;  徐乐英;  杨淑华
收藏  |  浏览/下载：65/0  |  提交时间：2012/04/12
薄膜厚度:4816  电子探针分析:4651  加速电压:3493  归一化:3199  化学分析法:3047  激发深度:2768  质量厚度:2290  测定:1914  公式计算:1851  重量法:1851