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Effects of nitrogen pressure and pulse bias voltage on the properties of Cr-N coatings deposited by arc ion plating 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2010, 卷号: 204, 期号: 11, 页码: 1800-1810
作者:  X. S. Wan;  S. S. Zhao;  Y. Yang;  J. Gong;  C. Sun
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Arc Ion Plating  Cr-n Coating  Nitrogen Pressure  Pulse Bias Voltage  Chromium Nitride Films  Thin-films  Cathodic Vacuum  Tin  Behavior  Stress  Macroparticles  Evaporation  Plasma  Charge  
Study on cathode spot motion and macroparticles reduction in axisymmetric magnetic field-enhanced vacuum arc deposition 期刊论文
Vacuum, 2010, 卷号: 84, 期号: 9, 页码: 1111-1117
作者:  W. C. Lang;  J. Q. Xiao;  J. Gong;  C. Sun;  R. F. Huang;  L. S. Wen
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Vacuum Arc Deposition  Axisymmetric Magnetic Field  Cathode Spot Motion  Macroparticles Reduction  Pressure  
Effect of Sample Configuration on Droplet-Particles of TiN Films Deposited by Pulse Biased Arc Ion Plating 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 5, 页码: 681-686
作者:  Y. H. Zhao;  G. Q. Liu;  J. Q. Xiao;  C. Dong;  L. S. Wen
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Arc Ion Plating  Pulsed Bias  Tin Film  Droplet-particles  Plasma Sheath  Vacuum-arc  Macroparticles  Levitation  Substrate  Mechanism  Voltage  Dust