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Effect of negative bias on the composition and structure of the tungsten oxide thin films deposited by magnetron sputtering
期刊论文
APPLIED SURFACE SCIENCE, 2015, 卷号: 359, 页码: 521-525
作者:
Wang, Meihan
;
Lei, Hao
;
Wen, Jiaxing
;
Long, Haibo
;
Sawada, Yutaka
;
Hoshi, Yoichi
;
Uchida, Takayuki
;
Hou, Zhaoxia
;
haolei@imr.ac.cn
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提交时间:2016/04/21
Tungsten Oxide Thin Films
Magnetron Sputtering
Negative Bias Voltage (V-b)
Structure
Composition
Study on nanocrystalline Cr2O3 films deposited by arc ion plating: I. composition, morphology, and microstructure analysis
期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2012, 卷号: 206, 期号: 10, 页码: 2629-2637
作者:
T. G. Wang
;
D. Jeong
;
S. H. Kim
;
Q. Wang
;
D. W. Shin
;
S. Melin
;
S. Iyengar
;
K. H. Kim
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浏览/下载:189/0
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提交时间:2013/02/05
Cr2o3 Film
Arc Ion Plating
Bias Voltage
Grain Size
Surface
Morphology
Hrtem
Chromium-oxide Coatings
Pulsed-laser Deposition
Negative Bias Voltage
Si-n Coatings
Thin-films
Mechanical-properties
Optical-properties
Nitrogen Pressure
Vapor-deposition
Residual-stress
Microstructural control of Cr-Si-N films by a hybrid arc ion plating and magnetron sputtering process
期刊论文
Acta Materialia, 2009, 卷号: 57, 期号: 17, 页码: 4974-4987
作者:
Q. M. Wang
;
K. H. Kim
Adobe PDF(2672Kb)
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提交时间:2012/04/13
Cr-si-n
Nanocomposite
Physical Vapor Deposition
Nanocrystalline
Microstructure
Transmission Electron Microscopy
Nanocomposite Thin-films
Negative Bias Voltage
Mechanical-properties
Coating System
Cathodic Arc
Deposition
Silicon
Growth
Layer
Hard
Study of (Ti,Al)N coatings on SiCp/Al substrate
期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2004, 卷号: 40, 期号: 7, 页码: 745-748
作者:
Zheng, JD
;
Zou, YS
;
Song, GH
;
Gong, J
;
Liu, Y
;
Sun, C
;
Wen, LS
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提交时间:2021/02/02
(Ti, Al)N coating
SiCp/Al composite
arc ion plating
negative bias voltage