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Interfacial properties of high-k dielectric CaZrOx films deposited by pulsed laser deposition 期刊论文
Applied Physics Letters, 2006, 卷号: 88, 期号: 18
作者:  X. Y. Qiu;  H. W. Liu;  F. Fang;  M. J. Ha;  Z. G. Liu;  J. M. Liu
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Chemical-vapor-deposition  Thermal-stability  Zro2 Films  Gate  Dielectrics  Thin-films  Si  Diffusion  Si(100)  
Phase separation and interfacial reaction of high-k HfAlOx films prepared by pulsed-laser deposition in oxygen-deficient ambient 期刊论文
Applied Physics Letters, Applied Physics Letters, 2006, 2006, 卷号: 88, 88, 期号: 7
作者:  X. Y. Qiu;  H. W. Liu;  F. Fang;  M. J. Ha;  J. M. Liu
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Silicate Thin-films  Silicate Thin-films  Thermal-stability  Thermal-stability  Gate Dielectrics  Gate Dielectrics  Si(100)  Si(100)  Zro2  Zro2  Capacitors  Capacitors  Diffusion  Diffusion  Kinetics  Kinetics  Oxides  Oxides  Hfo2  Hfo2  
Thermal stability and dielectric properties of ultrathin CaZrOx films prepared by pulsed laser deposition 期刊论文
Applied Physics a-Materials Science & Processing, 2005, 卷号: 81, 期号: 7, 页码: 1431-1434
作者:  X. Y. Qiu;  H. W. Liu;  F. Fang;  M. J. Ha;  X. H. Zhou;  J. M. Liu
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Zro2 Films  Silicon  
Monte Carlo simulation of the spontaneous oscillation in electrochemical deposition 期刊论文
European Physical Journal D, 2005, 卷号: 34, 期号: 1-3, 页码: 195-198
作者:  M. J. Ha;  F. Fang;  J. M. Liu;  M. Wang
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Layered Nanostructures  Copper  Electrodeposition  
An interface kinetics study of oxidation process of silicon 期刊论文
Integrated Ferroelectrics, 2005, 卷号: 74, 页码: 31-43
作者:  F. Fang;  M. J. Ha;  X. Y. Qiu;  J. M. Liu
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Oxidation Kinetics  Transition Region  Modeling  Thermal-oxidation  Oxide-films  Si(100)  Oxygen  Mechanism  Growth  Sio2  
Interfacial microstructure of high-kappa dielectric CaZrOx films deposited by pulse laser deposition in low oxygen pressure 期刊论文
Integrated Ferroelectrics, 2005, 卷号: 74, 页码: 103-111
作者:  X. Y. Qiu;  H. W. Liu;  F. Fang;  M. J. Ha;  J. M. Liu
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Calcium Zirconate  Interfacial Kinetic Process  Microstructure  Thermal-stability  Gate Dielectrics  Zro2 Films  Thin-films  Silicon  Si  Diffusion  Si(100)  Growth  Oxides