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Nanocrystalline silicon thin films grown by a MF twin magnetron sputtering system with two solenoid coils 期刊论文
Materials Letters, 2012, 卷号: 68, 页码: 367-369
作者:  J. H. Gao;  L. Zhang;  J. Q. Xiao;  J. Gong;  C. Sun;  L. S. Wen
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Nanocrystalline Silicon  Thin Films  Solenoid Coil  Sputtering  Microcrystalline Silicon  Fabrication  Deposition  Layer  Tool  
Effect of argon on the structure of hydrogenated nanocrystalline silicon deposited from tetrachlorosilane/hydrogen/argon plasma 期刊论文
Physica Status Solidi a-Applications and Materials Science, 2012, 卷号: 209, 期号: 6, 页码: 1080-1084
作者:  L. Zhang;  J. H. Gao;  J. Q. Xiao;  L. S. Wen;  J. Gong;  C. Sun
收藏  |  浏览/下载：124/0  |  提交时间：2013/02/05
Hydrogen Concentration  Microstructure  Nanocrystalline Silicon  Raman  Spectra  Chemical-vapor-deposition  Low-temperature Growth  Amorphous-silicon  Microcrystalline Silicon  Raman-spectroscopy  Solar-cells  Thin-films  Chemistry  Mechanism  Kinetics  
Effects of Substrate Temperature on the Growth of Polycrystalline Si Films Deposited with SiH(4)+Ar 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 4, 页码: 489-491
作者:  H. Cheng;  A. M. Wu;  J. Q. Xiao;  N. L. Shi;  L. S. Wen
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Poly-si Films  Ecr-pecvd  Substrate Temperature  Ar-dilution  Chemical-vapor-deposition  Ar-diluted Sih4  Microcrystalline Silicon  Optical-properties  h Films  Plasma  Pecvd  Hydrogen  Silane  
Effect of Ar on Polycrystalline Si Films Deposited by ECR-PECVD using SiH4 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2008, 卷号: 24, 期号: 5, 页码: 690-692
作者:  H. Cheng;  A. M. Wu;  N. L. Shi;  L. S. Wen
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Ar Flow Rate  Ecr-pecvd  Poly-si  Thin Films  Chemical-vapor-deposition  Microcrystalline Silicon  Low-temperatures  Plasma  Growth  Transition  Hydrogen