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Preparation and Formation Mechanism of Highly Dispersed Manganese Silicide on Silica by MOCVD of Mn(CO)(5)SiCl3 期刊论文
Chemical Vapor Deposition, 2013, 卷号: 19, 期号: 1-3, 页码: 68-73
作者:  J. C. Guan;  J. H. Jin;  X. Chen;  B. S. Zhang;  D. S. Su;  C. H. Liang
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Formation Mechanism  In-situ Ftir  Manganese Silicide  Mn(Co)(5)Sicl3  Mocvd  Chemical-vapor-deposition  Nanowires  Films  Fe(Co)(4)(Sicl3)(2)  Semihydrogenation  Precursor  Phase  Fesi  
Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers 期刊论文
Journal of Materials Science Letters, 1997, 卷号: 16, 期号: 3, 页码: 241-243
作者:  M. Zhang;  W. Yu;  W. K. Wang
收藏  |  浏览/下载：56/0  |  提交时间：2012/04/14
Thin-films  Interfacial Reactions  Silicide Formation  Initial-stage  Metal  (111)Si  Nucleation  Diffusion  Systems  
AMORPHIZATION PHENOMENON IN NI AMORPHOUS SI MULTILAYERS 期刊论文
Journal of Materials Research, 1994, 卷号: 9, 期号: 2, 页码: 401-405
作者:  W. H. Wang;  W. K. Wang
收藏  |  浏览/下载：60/0  |  提交时间：2012/04/14
Thin-films  Silicide Formation  Amorphous Si  Ti-si  State  Nucleation  Interface  Systems  Model  Alloy  
PHASE SELECTION IN INTERFACIAL REACTION OF NI/AMORPHOUS SI MULTILAYERS 期刊论文
Journal of Applied Physics, 1993, 卷号: 73, 期号: 9, 页码: 4313-4318
作者:  W. H. Wang;  H. Y. Bai;  Y. Zhang;  W. K. Wang
收藏  |  浏览/下载：60/0  |  提交时间：2012/04/14
Silicide Formation  Amorphous-silicon  Thin-films  Nucleation  Kinetics  Systems  Growth  Ni2si  Model