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K.C. Wong ... [1]
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SCI [6]
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WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
Approach for defect suppression and preparation of high quality semi-insulating InP
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2005, 卷号: 275, 期号: 1-2, 页码: E381-E385
作者:
Zhao, Y. W.
;
Dong, Z. Y.
;
Li, Ch. J.
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提交时间:2021/02/02
Point defects
Liquid encapsulated Czochralski
Indium phosphide
Semi-insulating III-V materials
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
作者:
Dong, HW
;
Zhao, YW
;
Li, JM
收藏
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浏览/下载:64/0
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提交时间:2021/02/02
semi-insulating InP
ion implantation
silicon
annealing
activation
Annealing and activation of silicon implanted in semi-insulating InP substrates
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2003, 卷号: 6, 期号: 4, 页码: 215-218
作者:
Dong, HW
;
Zhao, YW
;
Li, JM
收藏
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浏览/下载:63/0
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提交时间:2021/02/02
semi-insulating InP
ion implantation
silicon
annealing
activation
Characterization of defects and whole wafer uniformity of annealed undoped semi-insulating InP wafers
期刊论文
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, 2002, 卷号: 91, 页码: 521-524
作者:
Zhao, YW
;
Sun, NF
;
Dong, HW
;
Jiao, JH
;
Zhao, JQ
;
Sun, TN
;
Lin, LY
收藏
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浏览/下载:74/0
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提交时间:2021/02/02
indium phosphide
semi-insulating
annealing
PICTS
photoluminescence
Fe-diffusion-induced defects in InP annealed in iron phosphide ambient
期刊论文
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 2002, 卷号: 41, 期号: 4A, 页码: 1929-1931
作者:
Zhao, YW
;
Dong, HW
;
Jiao, JH
;
Zhao, JQ
;
Lin, LY
收藏
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浏览/下载:114/0
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提交时间:2021/02/02
indium phosphide
annealing
semi-insulating
defect
diffusion
Fe-diffusion-induced defects in InP annealed in iron phosphide ambient
期刊论文
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 2002, 卷号: 41, 期号: 4A, 页码: 1929-1931
作者:
Zhao, YW
;
Dong, HW
;
Jiao, JH
;
Zhao, JQ
;
Lin, LY
收藏
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提交时间:2021/02/02
indium phosphide
annealing
semi-insulating
defect
diffusion