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中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce薄膜及其光致发光特性 期刊论文
稀有金属材料与工程, 2008, 期号: 3, 页码: 490-494
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  朱振华;  刘斯明
收藏  |  浏览/下载：139/0  |  提交时间：2012/04/12
光致发光  Al2o3  薄膜  磁控溅射  稀土元素  
Preparation and luminescent property of Al2O3 : Ce thin films by medium frequency react magnetron sputtering 期刊论文
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING, 2008, 卷号: 37, 期号: 3, 页码: 490-494
作者:  Liao Guojin;  Ba Dechun;  Wen Lishi;  Zhu Zhenhua;  Liu Siming
收藏  |  浏览/下载：74/0  |  提交时间：2021/02/02
photo luminescence  Al2O3  thin films  magnetron sputtering  rare earth  
掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3：Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料与器件学报, 2007, 期号: 6, 页码: 543-548
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：98/0  |  提交时间：2012/04/12
三氧化二铝薄膜  中频反应磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce  
掺杂浓度对Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料, 2007, 期号: 6, 页码: 872-875
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：120/0  |  提交时间：2012/04/12
三氧化二铝薄膜  磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce  
中频反应磁控溅射法制备Al2O3:Ce3+发光薄膜工艺条件优化 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：106/0  |  提交时间：2013/08/21
磁控溅射  三氧化二铝  发光薄膜  正交试验  中频反应磁控溅射技术  
中频反应磁控溅射沉积Al_2O_3薄膜中迟滞回线的研究 期刊论文
真空, 2007, 期号: 3, 页码: 32-35
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：84/0  |  提交时间：2012/04/12
迟滞回线  反应溅射  中频溅射  氧化铝薄膜  
中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质 期刊论文
东北大学学报(自然科学版), 2007, 期号: 5, 页码: 687-691
作者:  廖国进;  闻立时;  巴德纯;  刘斯明
收藏  |  浏览/下载：87/0  |  提交时间：2012/04/12
Al2o3薄膜  光学性质  折射率  吸收系数  膜厚度  
掺杂浓度对Al2O3：Ce^3＋薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料, 2007, 卷号: 38.0, 期号: 006, 页码: 872-875
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：77/0  |  提交时间：2021/02/02
三氧化二铝薄膜  磁控溅射  掺杂浓度  光致  发光  Ce  
掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al2O3：Ce^3＋薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料与器件学报, 2007, 卷号: 13.0, 期号: 006, 页码: 543-548
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：97/0  |  提交时间：2021/02/02
三氧化二铝薄膜  中频反应磁控溅射  掺杂浓度  光致发光  Ce  
中频反应磁控溅射沉积Al2O3薄膜中迟滞回线的研究 期刊论文
真空, 2007, 卷号: 44.0, 期号: 003, 页码: 32-35
作者:  廖国进;  巴德纯;  闻立时;  刘斯明;  阎绍峰
收藏  |  浏览/下载：120/0  |  提交时间：2021/02/02
迟滞回线  反应溅射  中频溅射  氧化铝薄膜