×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
×
登录
中文版
|
English
中国科学院金属研究所机构知识库
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
学科领域
关键词
资助项目
文献类型
出处
收录类别
出版者
发表日期
存缴日期
学科门类
学习讨论厅
图片搜索
粘贴图片网址
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
新闻&公告
在结果中检索
研究单元&专题
作者
文献类型
期刊论文 [8]
会议论文 [5]
学位论文 [1]
发表日期
2009 [1]
2008 [2]
2007 [2]
2006 [1]
2005 [6]
2004 [2]
更多...
语种
中文 [9]
出处
真空 [3]
真空科学与技术学报 [3]
材料科学与工程学报 [2]
真空冶金与表面工程-... [2]
2004年中国先进陶... [1]
2005''全国真空... [1]
更多...
资助项目
收录类别
CSCD [3]
资助机构
中国真空学会 [3]
中国太阳能学会 [1]
新材料产业发展促进委... [1]
×
知识图谱
IMR OpenIR
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共14条,第1-10条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
提交时间升序
提交时间降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
发表日期升序
发表日期降序
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
题名升序
题名降序
TiO2薄膜光催化剂的制备与性能研究
学位论文
, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2009
作者:
崔颖
收藏
  |  
浏览/下载:82/0
  |  
提交时间:2012/04/10
二氧化钛薄膜
中频磁控溅射
电弧离子镀
第一原理计算
氮掺杂
硼掺杂
氮硼共掺杂
微观结构
润湿性
电子结构
光催化性能
电场辅助光催化
可见光催化性能
协同效应
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO_2薄膜反射率性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 期号: 1, 页码: 55-58
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:118/0
  |  
提交时间:2012/04/12
直流反应磁控溅射
二氧化钛薄膜
太阳电池
反射率
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 卷号: 28.0, 期号: 1.0, 页码: 55-58
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:134/0
  |  
提交时间:2021/02/02
直流反应磁控溅射
二氧化钛薄膜
太阳电池
反射率
TiO2薄膜表面能计算
会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:
常学森
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘坤
收藏
  |  
浏览/下载:93/0
  |  
提交时间:2013/08/21
二氧化钛薄膜
表面能
接触角
亲水性能
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响
会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:86/0
  |  
提交时间:2013/08/21
直流反应磁控溅射
二氧化钛染料敏化太阳电池
表面形貌
二氧化钛薄膜
磁控反应溅射TiO_2薄膜的实验研究
期刊论文
真空, 2006, 期号: 4, 页码: 13-15
作者:
常学森
;
巴德纯
;
闻立时
;
刘坤
;
李飞
;
张健
收藏
  |  
浏览/下载:73/0
  |  
提交时间:2012/04/12
纳米二氧化钛薄膜
氧流量
亲水性
磁控溅射
温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
会议论文
2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2005-07-14
作者:
王贺权
;
沈辉
;
巴德纯
;
汪保卫
;
闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:84/0
  |  
提交时间:2013/08/21
二氧化钛薄膜
直流反应
磁控溅射
温度
反射率
光学性质
温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响
期刊论文
材料科学与工程学报, 2005, 期号: 3, 页码: 341-344
作者:
王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:67/0
  |  
提交时间:2012/04/12
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
温度
反射率
总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 期号: 1, 页码: 69-72
作者:
王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:69/0
  |  
提交时间:2012/04/12
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
总气压
反射率
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响
期刊论文
真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14
作者:
王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏
  |  
浏览/下载:73/0
  |  
提交时间:2012/04/12
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
靶基距
反射率