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双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究 期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 期号: 5, 页码: 450-453
作者:  王贺权;  王志坚;  巴德纯;  沈辉;  陈达;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：97/0  |  提交时间：2012/04/12
直流反应磁控溅射  Tioxny  选择性吸收薄膜  反射率  
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO_2薄膜反射率性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 期号: 1, 页码: 55-58
作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：118/0  |  提交时间：2012/04/12
直流反应磁控溅射  二氧化钛薄膜  太阳电池  反射率  
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 卷号: 28.0, 期号: 1.0, 页码: 55-58
作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：134/0  |  提交时间：2021/02/02
直流反应磁控溅射  二氧化钛薄膜  太阳电池  反射率  
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:  王贺权;  巴德纯;  沈辉;  闻立时
收藏  |  浏览/下载：85/0  |  提交时间：2013/08/21
直流反应磁控溅射  二氧化钛染料敏化太阳电池  表面形貌  二氧化钛薄膜  
TiO_2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究 期刊论文
世界科技研究与发展, 2007, 期号: 3, 页码: 1-5
作者:  尹荔松;  向成承;  闻立时;  周克省;  潘吉浪
收藏  |  浏览/下载：141/0  |  提交时间：2012/04/12
光电催化  Tio2薄膜  直流反应磁控溅射  电化学阻抗谱  阳极偏压  
ZnO基透明导电氧化物薄膜的制备及性能分析 学位论文
, 金属研究所: 中国科学院金属研究所, 2007
作者:  裴志亮
收藏  |  浏览/下载：128/0  |  提交时间：2012/04/10
直流反应磁控溅射  透明导电氧化物  薄膜  Zno  结构表征  电学  光学性能  Burstein-moss效应  散射机制  能带结构  光学常数  柔性基片  电致发光  有机发光二极管  
TiO2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究 期刊论文
世界科技研究与发展, 2007, 卷号: 29.0, 期号: 003, 页码: 1-5
作者:  尹荔松;  向成承;  闻立时;  周克省;  潘吉浪
收藏  |  浏览/下载：93/0  |  提交时间：2021/02/26
光电催化  TiO2薄膜  直流反应磁控溅射  电化学阻抗谱  阳极偏压  
温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文
材料科学与工程学报, 2005, 期号: 3, 页码: 341-344
作者:  王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏  |  浏览/下载：67/0  |  提交时间：2012/04/12
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  温度  反射率  
总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 期号: 1, 页码: 69-72
作者:  王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时
收藏  |  浏览/下载：69/0  |  提交时间：2012/04/12
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  总气压  反射率  
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响 期刊论文
真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14
作者:  王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏  |  浏览/下载：73/0  |  提交时间：2012/04/12
二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  靶基距  反射率