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Effects of nitrogen pressure and pulse bias voltage on the properties of Cr-N coatings deposited by arc ion plating 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2010, 卷号: 204, 期号: 11, 页码: 1800-1810
作者:  X. S. Wan;  S. S. Zhao;  Y. Yang;  J. Gong;  C. Sun
Adobe PDF(2596Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：102/0  |  提交时间：2012/04/13
Arc Ion Plating  Cr-n Coating  Nitrogen Pressure  Pulse Bias Voltage  Chromium Nitride Films  Thin-films  Cathodic Vacuum  Tin  Behavior  Stress  Macroparticles  Evaporation  Plasma  Charge  
Influence of bias voltage on diamond-like carbon film deposited by arc ion plating 期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2004, 卷号: 40, 期号: 5, 页码: 537-540
作者:  Zou, YS;  Wang, W;  Zheng, JD;  Sun, C;  Huang, RF;  Wen, LS
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diamond-like carbon film  arc ion plating  pulse bias voltage  microstructure  mechanical property  
High temperature oxidation of (Ti,AI)N and (Ti,Al,Y)N coatings on a steel prepared by arc ion plating (AIP) 期刊论文
HIGH TEMPERATURE CORROSION AND PROTECTION OF MATERIALS 6, PRT 1 AND 2, PROCEEDINGS, 2004, 卷号: 461-464, 页码: 351-358
作者:  Li, MS;  Wang, FH;  Wu, WT
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(Ti,Al,Y)N  N-2 partial pressure  pulse bias voltage  oxidation  
Microstructure and hardness of chromium oxide coatings by arc ion plating 期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2003, 卷号: 39, 期号: 9, 页码: 979-983
作者:  Ji, AL;  Wang, W;  Song, GH;  Wang, AY;  Sin, C;  Wen, LS
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Cr2O3 thin film  arc ion plating  microstructure  pulse bias voltage  
Microstructure and hardness of chromium oxide coatings by arc ion plating 期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2003, 卷号: 39, 期号: 9, 页码: 979-983
作者:  Ji, AL;  Wang, W;  Song, GH;  Wang, AY;  Sin, C;  Wen, LS
收藏  |  浏览/下载：92/0  |  提交时间：2021/02/02
Cr2O3 thin film  arc ion plating  microstructure  pulse bias voltage  
Effects of nitrogen partial pressure and pulse bias voltage on (Ti,AI)N coatings by arc ion plating 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2003, 卷号: 167, 期号: 2-3, 页码: 197-202
作者:  M. S. Li;  F. H. Wang
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Arc Ion Plating  (Ti  Al)n Coatings  N-2 Partial Pressure  Pulse Bias  Voltage  Films  
Low temperature deposition of titanium nitride 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 1998, 卷号: 14, 期号: 4, 页码: 289-293
作者:  L. S. Wen;  R. F. Huang
收藏  |  浏览/下载：69/0  |  提交时间：2012/04/14
Pulse Bias Voltage  Residual-stress  Ion-bombardment  Hard Coatings  Pvd  Coatings  Film Growth  Tin  Arc  Resistance  Substrate