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| 中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:CeCl_3薄膜及其光致发光特性 期刊论文
稀有金属材料与工程, 2009, 期号: 4, 页码: 700-704
作者: 廖国进; 骆红; 闫绍峰; 巴德纯; 闻立时
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光致发光 Al2o3 薄膜 磁控溅射 Cecl3 |
| Photoluminescence of Al2O3:CeCl3 Films by Medium Frequency Reactive Magnetron Sputtering 期刊论文
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING, 2009, 卷号: 38, 期号: 4, 页码: 700-704
作者: Liao Guojin; Luo Hong; Yan Shaofeng; Ba Dechun; Wen Lishi
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photoluminescence Al2O3 thin films magnetron sputtering CeCl3 |
| 掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
真空, 2009, 期号: 2, 页码: 33-37
作者: 闫绍峰; 骆红; 廖国进; 巴德纯; 闻立时
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三氧化二铝薄膜 中频反应磁控溅射 掺杂浓度 光致发光 Ce |
| 中频反应磁控溅射制备Al_2O_3:Ce薄膜及其光致发光特性 期刊论文
稀有金属材料与工程, 2008, 期号: 3, 页码: 490-494
作者: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 朱振华; 刘斯明
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光致发光 Al2o3 薄膜 磁控溅射 稀土元素 |
| Preparation and luminescent property of Al2O3 : Ce thin films by medium frequency react magnetron sputtering 期刊论文
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING, 2008, 卷号: 37, 期号: 3, 页码: 490-494
作者: Liao Guojin; Ba Dechun; Wen Lishi; Zhu Zhenhua; Liu Siming
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photo luminescence Al2O3 thin films magnetron sputtering rare earth |
| 掺杂浓度对中频反应磁控溅射制备Al_2O_3：Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料与器件学报, 2007, 期号: 6, 页码: 543-548
作者: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
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三氧化二铝薄膜 中频反应磁控溅射 掺杂浓度 光致发光 Ce |
| 掺杂浓度对Al_2O_3:Ce~(3+)薄膜发光性能的影响 期刊论文
功能材料, 2007, 期号: 6, 页码: 872-875
作者: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
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三氧化二铝薄膜 磁控溅射 掺杂浓度 光致发光 Ce |
| 中频反应磁控溅射法制备Al2O3:Ce3+发光薄膜工艺条件优化 会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
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磁控溅射 三氧化二铝 发光薄膜 正交试验 中频反应磁控溅射技术 |
| 中频反应磁控溅射沉积Al_2O_3薄膜中迟滞回线的研究 期刊论文
真空, 2007, 期号: 3, 页码: 32-35
作者: 廖国进; 巴德纯; 闻立时; 刘斯明; 阎绍峰
收藏 | 浏览/下载：84/0 | 提交时间：2012/04/12
迟滞回线 反应溅射 中频溅射 氧化铝薄膜 |
| 中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质 期刊论文
东北大学学报(自然科学版), 2007, 期号: 5, 页码: 687-691
作者: 廖国进; 闻立时; 巴德纯; 刘斯明
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Al2o3薄膜 光学性质 折射率 吸收系数 膜厚度 |
