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WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
双层TiO_xN_y光谱选择性吸收薄膜特性的研究
期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 期号: 5, 页码: 450-453
作者:
王贺权
;
王志坚
;
巴德纯
;
沈辉
;
陈达
;
闻立时
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浏览/下载:96/0
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提交时间:2012/04/12
直流反应磁控溅射
Tioxny
选择性吸收薄膜
反射率
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO_2薄膜反射率性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 期号: 1, 页码: 55-58
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
闻立时
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浏览/下载:115/0
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提交时间:2012/04/12
直流反应磁控溅射
二氧化钛薄膜
太阳电池
反射率
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2008, 卷号: 28.0, 期号: 1.0, 页码: 55-58
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
闻立时
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浏览/下载:129/0
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提交时间:2021/02/02
直流反应磁控溅射
二氧化钛薄膜
太阳电池
反射率
直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜表面形貌的影响
会议论文
真空冶金与表面工程--第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2007-06-16
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
闻立时
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浏览/下载:84/0
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提交时间:2013/08/21
直流反应磁控溅射
二氧化钛染料敏化太阳电池
表面形貌
二氧化钛薄膜
温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
会议论文
2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集, 沈阳, 2005-07-14
作者:
王贺权
;
沈辉
;
巴德纯
;
汪保卫
;
闻立时
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浏览/下载:83/0
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提交时间:2013/08/21
二氧化钛薄膜
直流反应
磁控溅射
温度
反射率
光学性质
温度对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响
期刊论文
材料科学与工程学报, 2005, 期号: 3, 页码: 341-344
作者:
王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
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浏览/下载:65/0
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提交时间:2012/04/12
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
温度
反射率
总气压对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜的光学性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 期号: 1, 页码: 69-72
作者:
王贺权,巴德纯,沈辉,汪保卫,闻立时
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浏览/下载:68/0
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提交时间:2012/04/12
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
总气压
反射率
靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜光学性质的影响
期刊论文
真空, 2005, 期号: 1, 页码: 11-14
作者:
王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时
收藏
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浏览/下载:72/0
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提交时间:2012/04/12
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
靶基距
反射率
温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响
期刊论文
材料科学与工程学报, 2005, 卷号: 23.0, 期号: 003, 页码: 341-344
作者:
王贺权
;
沈辉
;
巴德纯
;
汪保卫
;
闻立时
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浏览/下载:74/0
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提交时间:2021/02/02
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
温度
反射率
总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25.0, 期号: 1.0, 页码: 65-68
作者:
王贺权
;
巴德纯
;
沈辉
;
汪保卫
;
闻立时
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浏览/下载:105/0
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提交时间:2021/02/02
TiO2薄膜
光学性质
直流反应磁控溅射
折射率
气压
晶体结构
硅基底
短波
对消
反射率