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射频反应溅射制备MgO二次电子发射薄膜 期刊论文
金属学报, 2016, 期号: 1
Authors:  王彬;  熊良银;  刘实
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射频反应溅射沉积  薄膜厚度  表面粗糙度  二次电子发射系数  耐电子束轰击能力  
磁控反应溅射与激光退火处理制备高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料 期刊论文
中国基础科学, 2011, 期号: 1, 页码: 15-17
Authors:  李琦;  尚建库
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磁控反应溅射  激光退火  薄膜晶化  掺杂  
氧、氩分压对直流反应溅射制备ZAO薄膜的性能影响 会议论文
第九届全国光电技术学术交流会论文集, 北京, 2010-05
Authors:  陆峰;  徐成海;  闻立时;  吴玉厚
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Zao薄膜  直流反应溅射  氧分压  氩分压  
磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究 期刊论文
电镀与精饰, 2009, 期号: 3, 页码: 1-4
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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Tio2薄膜  磁控反应溅射  钇掺杂  光催化活性  降解  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 期号: 11, 页码: 1785-1788
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  Tio2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39.0, 期号: 011, 页码: 1785-1788
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  TiO2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39.0, 期号: 011, 页码: 1785-1788
Authors:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  TiO2薄膜  光催化  沉积时间  
Mn或Cu掺杂非晶AlN薄膜的光致发光特性 期刊论文
真空科学与技术学报, 2007, 期号: 6, 页码: 508-510
Authors:  巴德纯;  佟洪波;  闻立时
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氮化铝  中频反应溅射  掺杂  光致发光  
反应溅射AlN的模拟 期刊论文
真空科学与技术学报, 2007, 期号: 5, 页码: 377-379
Authors:  佟洪波;  巴德纯;  闻立时
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模拟  氮化铝  反应溅射  二次电子发射系数  
中频反应磁控溅射制备AlN薄膜的工艺研究 期刊论文
真空科学与技术学报, 2007, 期号: 4, 页码: 332-335
Authors:  佟洪波;  巴德纯;  闻立时
Favorite  |  View/Download:22/0  |  Submit date:2012/04/12
氮化铝  中频反应溅射  沉积速率  光学性能