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Investigation on Behavior of Macro-Particles in TiN Film by Arc Ion Plating 期刊论文
JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY, 2015, 卷号: 15, 期号: 9, 页码: 7357-7362
作者:  Lang, W. C.;  Gao, B.;  Du, H.;  Xiao, J. Q.;  Li, M. X.;  Wang, X. H.
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Arc Ion Plating  Transverse Magnetic Field (Tmf)  Pulsed Bias  Nitrogen Partial Pressure  Substrate Position  Macro-particles Reduction  
Mechanical, Microstructural and Tribological Properties of Reactive Magnetron Sputtered Cr-Mo-N Films 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2015, 卷号: 31, 期号: 1, 页码: 55-64
作者:  D. L.;  Lei Qi, H.;  Wang, T. G.;  Pei, Z. L.;  Gong, J.;  Sun, C.
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Cr-mo-n Films  Dc Magnetron Sputtering  Hardness  Critical Load  Friction Coefficient  Wear  Nitride Thin-films  Substrate Bias  Nitrogen Flow  Coatings  Hardness  Temperature  Pvd  Modulus  Ratio  Dc  
Microstructure and properties of AlB2-type WB2 thin films deposited by direct-current magnetron sputtering 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2014, 卷号: 245, 页码: 108-116
作者:  Y. M. Liu;  C. L. Jiang;  Z. L. Pei;  H. Lei;  J. Gong;  C. Sun
收藏  |  浏览/下载：126/0  |  提交时间：2014/07/03
Alb2-type Wb2 Films  Dc Magnetron Sputtering  Hardness  Tribological  Properties  Self-lubricating  Boric-acid Films  Mechanical-properties  Enhanced Resistance  Oxide  Coatings  Hard Coatings  Bias Voltage  Tool Steel  Al  Substrate  Tungsten  
Effect of Sample Configuration on Droplet-Particles of TiN Films Deposited by Pulse Biased Arc Ion Plating 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 2009, 卷号: 25, 期号: 5, 页码: 681-686
作者:  Y. H. Zhao;  G. Q. Liu;  J. Q. Xiao;  C. Dong;  L. S. Wen
Adobe PDF(551Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：90/0  |  提交时间：2012/04/13
Arc Ion Plating  Pulsed Bias  Tin Film  Droplet-particles  Plasma Sheath  Vacuum-arc  Macroparticles  Levitation  Substrate  Mechanism  Voltage  Dust  
Influence of N-2 gas pressure and negative bias voltage on the microstructure and properties of Cr-Si-N films by a hybrid coating system 期刊论文
Journal of Vacuum Science & Technology A, 2008, 卷号: 26, 期号: 5, 页码: 1188-1194
作者:  Q. M. Wang;  I. W. Park;  K. Kim
收藏  |  浏览/下载：83/0  |  提交时间：2012/04/13
Cathodic Arc Plasma  Mechanical-properties  Sputtering Techniques  Substrate Bias  Nanocomposite Films  Ion-bombardment  Thin-films  Deposition  Temperature  Hardness  
Deposition of thick TiAlN coatings on 2024 Al/SiC(p) substrate by Arc ion plating 期刊论文
Surface & Coatings Technology, Surface & Coatings Technology, 2008, 2008, 卷号: 202, 202, 期号: 21, 页码: 5170-5174, 5170-5174
作者:  S. S. Zhao;  H. Du;  J. D. Zheng;  Y. Yang;  W. Wang;  J. Gong;  C. Sun
Adobe PDF(456Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：144/0  |  提交时间：2012/04/13
Gradient Tialn Coating  (Ti  Gradient Tialn Coating  (Ti  Al/sic(p) Substrate  Al)n Coatings  Al/sic(p) Substrate  Al)n Coatings  Arc Ion Plating  Arc Ion Plating  Nitrogen  Nitrogen  Flow Rate  Flow Rate  Cathodic Vacuum-arc  Cathodic Vacuum-arc  Hard Coatings  Hard Coatings  Cutting Tools  Cutting Tools  Films  Films  Pressure  Pressure  Performance  Performance  Contact  Contact  Bias  Bias  
Substrate bias effect on structure of tetrahedral amorphous carbon films by Raman spectroscopy 期刊论文
Diamond and Related Materials, 2007, 卷号: 16, 期号: 9, 页码: 1746-1751
作者:  F. X. Liu;  K. L. Yao;  Z. L. Liu
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Ta-c Films  Substrate Bias  Sp(3) Content  Raman Spectroscopy  Mixing  Bonds  Diamond-like Carbon  Chemical-vapor-deposition  Cathodic Vacuum-arc  Tribological Properties  Dlc Films  Mechanical-properties  Thin-films  Nitride  Ultraviolet  Coatings  
Substrate temperature calculation for pulsed bias arc ion plating 期刊论文
Surface & Coatings Technology, 2005, 卷号: 194, 期号: 2-3, 页码: 325-329
作者:  G. Q. Lin;  X. Bai;  C. Dong;  W. Lishi;  L. H. Wen
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Substrate Temperature  Arc Ion Plating  Pulsed Bias  Tin  Deposition  Voltage  
Influence of quantity and energy of the particles in gas phase on nucleation of the HFCVD of diamond films 期刊论文
Materials Letters, 2001, 卷号: 48, 期号: 1, 页码: 41135
作者:  G. H. Song;  C. Sun;  B. Wang;  A. Y. Wang;  R. F. Huang;  L. S. Wen
收藏  |  浏览/下载：69/0  |  提交时间：2012/04/14
Diamond Film  Hot Filament Chemical Vapor Deposition (Hfcvd)  Nucleation  Density  Mass Current Density  Substrate Bias  Chemical-vapor-deposition  Amorphous-carbon  Initial Growth  Flow Rate  Mechanism  
Low temperature deposition of titanium nitride 期刊论文
Journal of Materials Science & Technology, 1998, 卷号: 14, 期号: 4, 页码: 289-293
作者:  L. S. Wen;  R. F. Huang
收藏  |  浏览/下载：69/0  |  提交时间：2012/04/14
Pulse Bias Voltage  Residual-stress  Ion-bombardment  Hard Coatings  Pvd  Coatings  Film Growth  Tin  Arc  Resistance  Substrate